緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010 HV_SP-010為一款結構緊湊、全自動型的離子濺射鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之前和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免交叉污染。標配FTM膜厚監測裝置。

特點和優點
?高性能離子濺射儀，可選等離子處理附件
?獨特的即插即用濺射模塊
?yi流的真空性能和快速抽真空

?標配隔膜泵和渦輪泵；全量程真空測量（皮拉尼，冷陰極真空計）

?結構緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間

巧妙的真空設計
CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統，除了用于SEM和EDX的常規高質量濺射鍍膜之外，還涵蓋了zhui高級的SEM，TEM和薄膜應用。特別選擇和設計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設備。

LC-006金屬大腔室
LC-006是當前玻璃腔室的擴大版，為鋁制結構。這個可選的金屬腔室可容納6"晶圓或其它大尺寸樣品，而且消除了對內爆防護的需求。在CCU-010上選配LC-006, 無需任何修改就可實現更大樣品和晶圓的鍍膜。

SP-010 & SP-011濺射模塊 
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 LV和CCU-010 HV鍍膜主體單元，即可使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續噴涂時間長，非常適合需要較厚膜的應用。 可選多種濺射靶材，適合SEM、FIB和各種薄膜應用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對于極細顆粒尺寸鍍膜，推薦使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV系列鍍膜儀。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對那些比常規EM應用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應用時，推薦使用該濺射頭。SP-011與CCU-010 HV相結合，可滿足諸如DLC，ITO或鐵磁濺射材料鍍膜等具有挑戰性的應用。

ET-010等離子刻蝕單元 
在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后，可以對樣品進行等離子刻蝕處理。選用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附著力；也可在樣品鍍膜后進行等離子處理，從而對膜層表面進行改性。

RC-010手套箱應用的遠程控制軟件
◎基于window的遠程控制軟件
◎創建和調用配方
◎實時圖表，包含導出功能（Excel、png等）
◎自動連接到設備

可選多種樣品臺
CCU-010提供一個直徑不小于60mm的樣品臺，該樣品臺插入到高度可調且可傾斜的樣品臺支架上?？蛇x其它專用的旋轉樣品臺、行星臺、載玻片樣品臺等。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本
CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的zui高要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射和鍍碳儀采用優質組件和智能設計，可在超高分辨率應用中提供出色的結果。該設備是全自動抽真空和全自動操作，所有CCU-010 HV系列高真空版本的鍍膜儀，均采用TFT 觸摸屏，配方可編程，保證結果可重復。CCU-010 HV 標配抽真空系統完全無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內部，外部沒有笨重的旋轉泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無油抽真空系統可將鍍層中的污染或缺陷降至zui低。關閉時，該設備可以保持在真空下，這有效地保護了系統免受灰塵和濕氣的影響，并為高質量的鍍層創造了快速抽真空和有利的真空條件。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本有：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱專用鍍膜儀。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜的主要亮點在于實現了兩大技術性突破：一是du家采用自動碳纖維卷繞系統，在每次蒸發后自動推進碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進行數十次的鍍碳運行，比市場上常見的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節省大量的人工操作，既適用于大多數常規鍍碳應用，也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應用。二是將“鍍膜前對樣品表面進行等離子清潔（增加附著力）+鍍膜+鍍膜后對膜層表面進行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集于同一臺儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質量，拓寬了應用范圍。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品質”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務，客戶買得放心、用得省心！