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冠乾科技 納米壓印膠 正性光刻膠 負性光刻膠 顯影液 去膠液
- 品牌：冠乾科技
- 產地：上海 浦東新區
- 供應商報價：面議
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冠乾科技（上海）有限公司
更新時間：2025-05-29 10:04:39 -
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入駐年限第6年
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曝光
應用
特性
對生產量的影響
i線曝光用粘度增強負膠系列
在設計制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮（Polyioprene-Bisazide）的負膠。
在濕刻和電鍍應用時強大的粘附力；很容易用去膠液去除。 單次旋涂厚度范圍如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波長曝光
避免了基于有機溶劑的顯影和沖洗過優于傳統正膠的優勢：控制表面形貌的優異線寬 任意甩膠厚度都可得到筆直的側壁
單次旋涂即可獲得200 μm膠厚
厚膠同樣可得到優越的分辨率
150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間
優異的感光度進而增加曝光通量
更快的顯影，100 μm的光刻膠顯影僅需6 ～ 8分鐘光刻膠曝光時不會出現氣泡
可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠
不必使用增粘劑如HMDSg和h線曝光用粘度增強負膠系列
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