X射線光電子能譜儀PHI GENESIS 500

日本ULVAC-PHI公司推出的一款多功能光電子能譜儀，集XPS、紫外光電子能譜（UPS）、4-觸點樣品臺（原位測試）和多種濺射離子源（氬單離子源Ar+、氣體團簇離子源GCIB）等為一體，打造出全面高性能電子結構綜合分析平臺。

PHI GENESIS 500采用掃描微聚焦的單色化Al Kα作為X射線源，可選擇的束斑直徑在5 μm至400 μm連續可調，能在較低運行功率下獲得高靈敏度和最佳能量分辨率，既能滿足常規的大面積XPS分析，又能利用小束斑精準分析微米形貌，還可實現多點分析、線掃描、面分析、化學態成像和深度剖析。

因此，該設備可以高精度完成各種材料樣品表面的元素成分、價態、相對含量、濃度摻雜及表面、深度分布等功能分析，確保所研發材料性能的精確控制，以完成材料表面元素以及化合態的分布、識別、量化、功能分析和預測等。

儀器應用范圍

XPS可對各種材料樣品提供高精度的元素成分、價態、相對含量、濃度摻雜及表面、深度分布等功能分析。目前該儀器被廣泛應用于金屬材料、薄膜材料、納米材料、催化劑材料、生物材料、木材、半導體、微電子等各種有機無機材料研究領域。主要用于材料表面信息（僅限于幾個納米的絕對表面）以及材料之間界面相互作用的機理研究。

簡單易操作

PHI GENESIS 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內設置常規和高級的多功能測試參數，同時保留諸如進樣照片導航和 SXI 二次電子影 像精準定位等功能。

簡單友好的 用戶界面

PHI GENESIS 提供了

一個簡單、直觀且易 于操作的用戶界面， 對于操作人員非常友 好，操作人員執行簡 單的設置操作即可完 成包括所有選配附件 在內的自動化分析。

多功能選配附件

原位的多功能自動化分析， 涵蓋了從 LEIPS 測試導帶到 HAXPES 芯能級激發 的全范圍技術，相比于傳統的 XPS 而言， PHI GENESIS 體現了好的性能價值。

全面的優良解決方案 :

高性能 XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多種其他 選配附件可以滿足所有表面分析需求。

多數量樣品大面積分析

- 多數量樣品大面積分析

- 把制備好樣品的樣品托放進進樣腔室后將自動傳送進分析腔室內

- 可同時使用三個樣品托

- 80mm×80mm 的大樣品托可放置多數量樣品

- 可分析粉末、粗糙表面、絕緣體、形狀復雜等各種各樣的樣品

獨1無2的可聚焦≤5μm 的微區 X 射線束斑

在 PHI GENESIS 中， 聚焦掃描 X 射線 源可以激發二次電子影像（SXI），利用 二次電子影像可以進行導航、精準定位、多點多區域同時分析測試以及 深度剖析。