電子半導體失效分析-離子研磨拋光儀

SEMPREP SMART電子半導體失效分析-離子研磨拋光儀離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質量的樣品，例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現出色的效果。

 主要特點：

先進的離子槍設計和自動化功能

新型用戶友好操作軟件:為用戶提供智能輔助

更精確的針閥:允許對氣流進行精細調整

高精度可調性:用于精細調節操作
更長壽命高真空傳感器

產品功能：

可選低能槍（LEG）

可選的新型 LN2 冷卻系統

可選真空轉移裝置 (VTU)，用于在真空條件下取出樣品

 獨立的對位樣品臺：在進行 90° 加工時用于精確樣品定位

技術參數：

離子槍：

超高能量離子槍，最高可達 16 keV

樣品尺寸

截面樣品臺（可選 30°、90°樣品臺）：

 30°樣品臺：最大尺寸16.4mm (長) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚) 

 90°樣品臺：最大尺寸18.6mm (長) x 16mm (寬) x 6mm (厚)

用于表面加工（EBSD）的平面樣品臺，配有三種不同的頭部類型

• 平頭型：最大直徑 50mm x 4mm

• 標準型：最大直徑 32mm x 15mm

• 空心型：最大直徑 25mm x 23mm

樣品臺移動

• 樣品傾斜角度：0° 至 30°，每 0.1° 連續可調

• 樣品旋轉角度調節：360 可變速樣品旋轉，角度速度可調

• 樣品加工擺角（搖擺）：±10° 至 ±120°，每 5° 連續可調

 樣品冷卻（可選）

液氮冷卻或 Peltier 冷卻

真空系統 

無油隔膜泵和分子泵  

氣體供應系統 

純度為 99.999% 的氬氣工作氣體，高精度針閥流量控制 

分子泵

HiPace 80 Neo. 

成像系統 

500萬像素CMOS相機，具有圖像內的測量功能 

計算機控制 

易于使用的圖形界面，自動化離子槍操作和樣品臺 位置校準

使用氬離子束進行加工

【新品】Technoorg Linda電鏡制樣設備SEMPREP SMART 離子研磨儀