產品功能介紹
　　等離子清洗技術起源于約30年前的半導體行業,等離子清洗主要用于清洗樣品表面的碳氫化合物.等離子清洗的關鍵要點在于：不能改變樣品本身的化學組成;不能改變樣品的結構特征;不能損傷樣品表面.

技術特點：
　　Solarus是一種獨特的清洗解決方案，它利用等離子配方，對于所有的樣品，包括Holey碳膜，都具有更快更徹底的清洗效果。該設備能安全地清洗掉表面沉積的污染物—擴展了對已經被污染的樣品的觀察時間。采用分子泵搭配多級隔膜泵的真空系統可確保快速可靠的抽氣效果。不到1分鐘的抽氣與放氣時間，30秒--2分鐘的清洗時間，整個過程不用2分鐘。

使用等離子清洗的hao處：
增強成像能力
提高元素分析的準確性
在SEM中，延長EDX和EBSD的觀察和采集時間
可使用更小的束斑，這對于TEM/STEM中的STEM和EELS分析非常重要。

特點：
1.)獨特的H2/O2配方
2.)更快的清洗周期（不到2分鐘）
3.)交互式的觸摸屏設計
4.)提供7種經測試過的一鍵操作式配方
5.)2個用于裝載側插TEM和SEM樣品桿的前置裝樣口
6.)頂部裝樣口可裝載多個（>25）TEM微柵或者SEM樣品臺/樣品
7.)自動匹配功率的射頻源確保等離子源的長時間穩定
8.)精確的氣體流量控制（質量流量計）
9.)最小損傷的清洗Holey碳膜
10.)支持多種語言（英語、中文、日語、韓文、法語、德語）

技術參數：
射頻源:  50瓦的射頻電源，具有功率自動匹配功能
真空系統：70升/秒的分子泵搭配兩級隔膜泵
氣壓： 5E-6 Torr基本壓力，400mTorr工作壓力 
真空規：緊湊的皮拉尼規
艙室：
 兩個前置接口能裝載TEM適配器，用于裝載側插TEM樣品桿和SEM樣品桿
 頂部入口用于放入SEM樣品臺，顯微鏡鏡筒部件或者各種真空件
         艙室尺寸為3.5”直徑 x 2.0” 深度
 前置觀察窗能觀察工作時的等離子體發光
    內置的電磁閥將艙室與真空泵之間隔離開，抽真空時間不到1分鐘，放氣時間小于5秒。
氣體控制：采用精確的質量流量計來測量及控制氣體流量
氣體種類：采用三路獨立氣體（H2，O2和Ar）
清洗配方：提供包含有H2/O2配方等一系列配方，同時支持用戶自定義配方
用戶界面：采用交互式觸摸屏，提供包含有中文、英文等多種語言界面
電源：通用電壓/頻率100VAC - 240VAC/50-60Hz/1000W

產品主要應用

去除碳氫化合物對TEM和SEM樣品臺或樣品的污染

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