光電流成像系統，同時可用于拉曼光譜成像，熒光光譜成像。

u  獨特的激光掃描技術，具有優異的掃描分辨率和重復性

    激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm

u  體相全息光柵光譜儀

    光透過率>90%，比反射式光柵高30%，信號傳輸效率更高

u  具有Raman/PL/光電流等多種測量模式

u  結構緊湊，模塊化設計

u  掃描速度快，掃描范圍大

200μm x 200μm范圍內高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

探針臺，拉曼光譜成像，PL，熒光光譜成像，光電流光譜成像，拉曼 mapping，PL mapping，photocurrent mapping，光電流mapping，熒光mapping

韓國Nanobase公司zui新推出的激光共聚焦光電流成像系統（光電流mapping）結合了探針臺和激光共聚焦成像系統，不僅可以用作探針臺，還可以用于光電流成像，同事擴展支持拉曼光譜成像和熒光光譜成像，產品具有如下特點：

? 客制化，可升級設計

? 200μm x 200μm 大面積快速掃描成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

? 采用VPHG體相全息光柵，光通過率高。

? 易于使用和維護

? 可升級至拉曼光譜成像和熒光光譜成像

光學參數：

探針臺參數：

配備獨特的激光掃描裝置