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X射線菲涅耳波帶板（FZP）
- 品牌：納騰
- 產(chǎn)地：上海 徐匯區(qū)
- 供應商報價：面議
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上海納騰儀器有限公司
更新時間：2025-03-17 17:30:12 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照
- 同類產(chǎn)品SEM/TEM/FIB/X-ray耗材(3件)
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詳細介紹
簡介
NTT的FZP由干法蝕刻的Ta組成。具有出色的高耐X射線輻射性、高分辨率和高對比度,吸收體圖案清晰，S/N比高，成像缺陷少, 能理想地應用于X射線顯微鏡、X射線微光束輻射和X射線成像。
另外，還提供用于軟X射線和較為紫外（EUV、XUV）領域的Ta圖案／SiN膜型FZP和Au板圖案／SiN 膜型FZP。并提供臺階式（基諾全息照片）FZP型號
寬高比
膜材料
膜厚度
（μm）
ΔRn
（nm）
D
（μm）
N
Tm
（nm）
FZP-S38/84
4.2
SiN
0.15
38
84
550
160
FZP-S50/80
5
SiN
0.2
50
80
400
250
FZP-S40/155
5
SiN
2
40
155
970
200
FZP-S50/330
8
SiN
1
50
330
1,650
400
FZP-S86/416
8
SiN
2
86
416
1,200
700
FZP-100/155
8
SiN
2
100
155
388
800
FZP-173/208
5.8
SiN
2
173
208
300
1,000
FZP-200/206
8
SiN
2
200
206
255
1,600
FZP-C234/2500
0.6
SiC
0.2
234
2,500
2,670
150
NTT-AT的EUV-FZP針對EUV波長進行了優(yōu)化。
薄膜上的Ta吸收劑圖案實現(xiàn)低于100nm / a
少數(shù)100納米聚焦和成像等
- EUV顯微鏡
- EUV納米束生成
- EUV檢查
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