- 2025-01-20 11:06:35ald設備
- ALD設備（原子層沉積設備）是一種用于制造納米材料和薄膜的先進設備。其基本原理是通過將反應前驅體交替脈沖通入反應腔，并在樣品表面發生化學吸附反應，形成單層原子或分子層，通過重復該過程實現薄膜的逐層沉積。ALD設備廣泛應用于半導體、太陽能電池、催化劑等領域，具有薄膜厚度均勻、成分精確可控、可制備復雜結構等優勢。
資源：3896個 瀏覽：25次展開
ald設備相關內容
- 全部
- 產品
ald設備產品
產品名稱
所在地
價格
供應商
咨詢
- 牛津OpAL 開放式樣品載入ALD設備
- 國外 歐洲
- 面議
-
深圳市藍星宇電子科技有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- ALD原子層沉積設備-SVT
- 國外 美洲
- 面議
-
美國SVTA公司中國辦事處
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 原子層沉積系統ALD產品
- 國內 上海
- 面議
-
上海納騰儀器有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 全自動原子層沉積系統(ALD)
- 國外 美洲
- 面議
-
香港電子器材有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 全自動原子層沉積系統(ALD)
- 國外 美洲
- 面議
-
香港電子器材有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
滬公網安備 31011502008050號