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掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡成像原理有什么不同?

fodofo 2017-12-30 23:41:37 1047  瀏覽
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全部評論(1條)

  • fsehdas 2017-12-31 00:00:00
    掃描電鏡主要是電子束照射到樣品后的二次電子成像,透射電鏡的明場像是透射電子成像。 電子顯微鏡簡稱電鏡,英文名Electron Microscope(簡稱EM)經過五十多年的發展已成為現代科學技術中不可缺少的重要工具。 電子顯微鏡由鏡筒、真空裝置和電源柜三部分組成。 鏡筒主要有電子源、電子透鏡、樣品架、熒光屏和探測器等部件,這些部件通常是自上而下地裝配成一個柱體。 電子透鏡用來聚焦電子,是電子顯微鏡鏡筒中Z重要的部件。一般使用的是磁透鏡,有 時也有使用靜電透鏡的。它用一個對稱于鏡筒軸線的空間電場或磁場使電子軌跡向軸線彎曲形成聚焦,其作用與光學顯微鏡中的光學透鏡(凸透鏡)使光束聚焦的作用是一樣的,所以稱為電子透鏡。光學透鏡的焦點是固定的,而電子透鏡的焦點可以被調節,因此電子顯微鏡不象光學顯微鏡那樣有可以移動的透鏡系統。現代電子顯微鏡大多采用電磁透鏡,由很穩定的直流勵磁電流通過帶極靴的線圈產生的強磁場使電子聚焦。電子源是一個釋放自由電子的陰極,柵極,一個環狀加速電子的陽極構成的。陰極和陽極之間的電壓差必須非常高,一般在數千伏到3百萬伏特之間。它能發射并形成速度均勻的電子束,所以加速電壓的穩定度要求不低于萬分之一。 樣品可以穩定地放在樣品架上,此外往往還有可以用來改變樣品(如移動、轉動、加熱、降溫、拉長等)的裝置。 為什么要用熒光屏呢?因為人們的肉眼是看不見電子束的,所以要用熒光屏把電子束變成可見的光源,才能形成眼睛能看得見的像。 探測器用來收集電子的信號或次級信號。 真空裝置用以保障顯微鏡內的真空狀態,這樣電子在其路徑上不會被吸收或偏向,由機械真空泵、擴散泵和真空閥門等構成,并通過抽氣管道與鏡筒相聯接。 透射式電子顯微鏡因電子束穿透樣品后,再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿,可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中,圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需要穿過樣本,因此樣本必須非常薄。組成樣本的原子的原子量、加速電子的電壓和所希望獲得的分辨率決定樣本的厚度。樣本的厚度可以從數納米到數微米不等。原子量越高、電壓越低,樣本就必須越薄。樣品較薄或密度較低的部分,電子束散射較少,這樣就有較多的電子通過物鏡光闌,參與成像,在圖像中顯得較亮。反之,樣品中較厚或較密的部分,在圖像中則顯得較暗。如果樣品太厚或過密,則像的對比度就會惡化,甚至會因吸收電子束的能量而被損傷或破壞。 透射電鏡的分辨率為0.1~0.2nm,放大倍數為幾萬~幾十萬倍。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須制備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。 透射式電子顯微鏡鏡筒的頂部是電子槍,電子由鎢絲熱陰極發射出、通過diyi,第二兩個聚光鏡使電子束聚焦。電子束通過樣品后由物鏡成像于中間鏡上,再通過中間鏡和投影鏡逐級放大,成像于熒光屏或照相干版上。中間鏡主要通過對勵磁電流的調節,放大倍數可從幾十倍連續地變化到幾十萬倍;改變中間鏡的焦距,即可在同一樣品的微小部位上得到電子顯微像和電子衍射圖像。 掃描電子顯微鏡的電子束不穿過樣品,僅以電子束盡量聚焦在樣本的一小塊地方,然后一行一行地掃描樣本。入射的電子導致樣本表面被激發出次級電子。顯微鏡觀察的是這些每個點散射出來的電子,放在樣品旁的閃爍晶體接收這些次級電子,通過放大后調制顯像管的電子束強度,從而改變顯像管熒光屏上的亮度。圖像為立體形象,反映了標本的表面結構。顯像管的偏轉線圈與樣品表面上的電子束保持同步掃描,這樣顯像管的熒光屏就顯示出樣品表面的形貌圖像,這與工業電視機的工作原理相類似。由于這樣的顯微鏡中電子不必透射樣本,因此其電子加速的電壓不必非常高。 掃描式電子顯微鏡的分辨率主要決定于樣品表面上電子束的直徑。放大倍數是顯像管上掃描幅度與樣品上掃描幅度之比,可從幾十倍連續地變化到幾十萬倍。掃描式電子顯微鏡不需要很薄的樣品;圖像有很強的立體感;能利用電子束與物質相互作用而產生的次級電子、吸收電子和X射線等信息分析物質成分。 掃描電子顯微鏡的制造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時,也可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振蕩(等離子體)。

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透射電子顯微鏡怎么成像

透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope, TEM)作為現代科學研究中的一項重要工具,廣泛應用于材料科學、生物學、化學等領域。它的工作原理和成像技術為我們揭示了物質的微觀結構,尤其是能夠深入到納米級別,觀察細胞內部的精細結構以及各類材料的晶體結構。本文將詳細介紹透射電子顯微鏡如何進行成像,探討其成像原理、過程及其優勢,為理解其在科研中的重要作用提供清晰的視角。

透射電子顯微鏡的成像原理

透射電子顯微鏡通過利用電子束與樣品的相互作用進行成像。與傳統光學顯微鏡不同,透射電子顯微鏡使用高能電子束而非光線,因為電子波長遠小于可見光,從而能夠觀察到比光學顯微鏡更為細微的物質結構。當電子束通過樣品時,部分電子被樣品中的原子散射或透過,另一部分則未受影響。通過檢測這些不同的電子束,電子顯微鏡能夠繪制出樣品的詳細影像。

成像過程

  1. 電子束的生成與聚焦 透射電子顯微鏡的電子束通常由一個加速器產生并通過電磁透鏡聚焦成極細的電子束。加速后的電子束具有極高的能量,可以穿透很薄的樣品。

  2. 樣品的制備 樣品必須足夠薄,以便電子束能夠透過。一般來說,樣品的厚度需要控制在100nm以下,這樣電子才能順利通過并獲得清晰的成像。

  3. 與樣品的相互作用 當電子束與樣品的原子發生相互作用時,部分電子會被散射,部分則通過樣品。這些散射電子和透過電子的不同程度為成像提供了信息。

  4. 成像與放大 整個透射過程通過一系列的透鏡系統,將透過樣品的電子聚焦到熒光屏或相機上,從而形成樣品的高分辨率圖像。不同的電子透過樣品的路徑、散射程度以及強度變化構成了圖像的細節。

透射電子顯微鏡的優勢

  1. 高分辨率 透射電子顯微鏡的大優勢在于其超高的分辨率,能夠觀察到原子級別的細節。由于電子的波長比可見光波長短,它能揭示光學顯微鏡無法捕捉到的微觀結構。

  2. 納米尺度觀察 TEM不僅能夠看到納米尺度的細節,還是觀察材料、細胞、病毒等微觀結構的首選工具,廣泛應用于科學研究及臨床診斷中。

  3. 多功能性 除了成像,透射電子顯微鏡還可以進行化學成分分析(如電子能量損失譜、X射線能譜等),進一步提高了其應用的廣泛性和準確性。

結語

透射電子顯微鏡作為現代科研不可或缺的工具,其高分辨率和獨特的成像原理使其在微觀結構觀察中具有無可替代的地位。無論是在材料科學還是生物學領域,TEM為我們提供了觀察微觀世界的新視角和深度,使我們得以深入探索細胞、材料和納米結構的復雜性。

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背散射電子對掃描電子顯微鏡的成像作用

       與光學顯微鏡不同,掃描電子顯微鏡(SEM)利用電子而不是光線生成所研究樣品的圖像。為了理解掃描電鏡的工作原理,我們必須了解背散射電子(BSEs)。

       背散射電子是高能電子,可用于獲取樣品各元素分布的高分辨率圖像。

       為了描述背散射電子是如何發揮作用的,可以假設圍繞地球旋轉的小行星不受萬有引力作用發生偏移回到太空。同樣,當樣品被原子轟擊時,一些帶負電的電子不受帶正電的原子核吸引,被反射或“背散射”出樣品。

入射電子與原子核相互作用后散射示意圖

       背散射電子的產生隨元素質量的不同而不同。一般來說,較重的元素其原子核更大,對入射電子的偏轉作用比較輕的元素更強烈。因此,與較輕的元素(如硅,其原子序數Z=14)相比,較重的元素(如銀,其原子序數Z=47)在掃描電鏡成像中顯得更亮,因為更多的背散射電子從樣品表面射出。

掃描電鏡下的太陽能電池成像,與較輕元素硅相比,較重元素銀顯得更亮。

       通常將探測器直接置于樣品上方檢測背散射電子,這種探測器由半導體材料構成(通常是硅)。撞擊探測器的背散射電子激發硅電子,形成電子空穴對。半導體探測器只對高能電子敏感,因此可用于檢測背散射電子。

       背散射電子產生的自由電子和電子空穴對可以在重組前被分離,從而產生電流。該電流可以通過電子電路進行測量,Z終將其轉換為關于樣品元素信息的高分辨率圖像。

       背散射電子圖像質量可以根據研究人員的目標隨意調節。例如,使用更高的加速電壓,電子穿透深度會增加,使得樣品表面的薄膜層難以觀察。如果研究人員想要研究樣品表面薄膜層,就必須使用較低加速電壓的入射電子束。

       5kV 和15kV加速電壓下錫球樣品的及其上的碳泥片背散射電子成像。碳泥片很暗,在15kV的加速電壓下難以觀察。

       背散射電子可用于獲取樣品元素的高分辨率圖像。通過清楚地了解背散射電子的工作原理和操縱變量,用戶可以獲取高分辨率圖像用于研究所需。



(來源:賽默飛世爾材料與結構分析)

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