產品簡介

CHEMIXX E 30 (掩模)光掩模或晶圓蝕刻 (E) 系統

該蝕刻和清潔系統旨在為工業用戶提供高效且安全的系統。 此外，低生命周期成本 (LCC) 是我們推薦此設備的一個很好的理由。該工具具有易于操作的用戶界面，具有所有需要的功能，如配方編程、服務、維護和用戶管理。 在該系統的設計和構建中，非常重視安全性和用戶友好性。

產品特色

÷ 人工裝卸半自動化系統

÷ 面罩尺寸（方形襯底）高達 230 x 230 毫米/9 x 9 英寸

÷ 晶圓尺寸高達 300 毫米（?12 英寸）

÷ 一個用于蝕刻和清洗應用的工藝室

÷ 最多兩個用于化學和機械加工的電動介質臂

÷ 介質臂最大。 6條介質線/噴嘴

÷ 提供多種噴嘴

÷ 低接觸或定制夾頭

÷ 加熱介質線：20 - 80°C

*取決于介質

÷ 腔室沖洗噴嘴系統

÷ 去離子水的 BSR（背面沖洗）噴嘴

÷ 工藝室外的手動去離子水槍

÷ 最大的集成介質容器。3 個罐（每個 10 升）

可選：用于不同化學品的外部介質容器

例如（H2SO4、H2O2、NH4OH、HF、BOE）

÷ 手動灌裝或通過批量灌裝系統

÷ 傳感器控制的 3 路排水系統可通過配方進行編程

÷ 排放到帶有高位傳感器的廢物罐或設施排放

技術數據

通用

襯底尺寸: 最大可達 230 x 230 mm (9″x 9″) 或 ? 300mm (?12″)

電機轉速: 最大 4.000 轉數, 以 1 轉 步進可編程*

電機加速: 最大 5.000 轉/秒*, 以 1 轉/秒的步進*

步進時間: 1 至 999.9 秒，以 0.1 秒為步長可編程

系統架構: 由粉末涂層不銹鋼制成

系統外殼: 由 PP 白色制成（可選 FM 4910) 和

可調水平腳和運輸輪。

加工碗: 由 PP 天然制成 (可選 PVDF)

處理室: 由 PP 白色制成（可選 PVDF)

*取決于卡盤設計、襯底重量和負載

要求

電源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

真空: -0.8 巴（-80KPa）, 管 OD ?8 mm

CDA: 8 巴（800KPa）, 管 OD ?6 mm

氮: 4 ± 0.2 巴（400±20KPa）, 管 OD ?6 mm

去離子水: 2.5 +1.0 巴（250+100KPa）, 管 3/8” flare

排氣過程: 1x OD ?140 mm, 50 - 180m3/h*

排氣容器: 1x OD ?110 mm, 50 - 180m3/h*

排水: 帶有高液位傳感器的廢物罐或設施排水管*

*化學和工藝相關