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CIF粉體等離子清洗機CPCP3

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CIF粉體等離子清洗機CPCP3 核心參數
樣品腔尺寸 Φ75xH120mm 樣品腔容積 3.8L
射頻功率 40KHz/13.56MHz

產品特點

CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

詳細介紹

  

CIF 推出的專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專 用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材 料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現 常規等離子清洗。

粉體等離子清洗機原理:

粉體等離子清洗機就是在常規等離子清洗機真空腔內,放置可旋轉并帶攪 拌的樣品瓶,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離 子體,作用在樣品瓶內粉體樣品上,通過等離子體轟擊被清洗粉體材料表面,  改變材料表面性質,優化材料表面性能。等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理、化學性質,在保持粉體材料原有性能的前提下,賦予其表面 新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水性變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在 介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。

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