KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術(shù)實現(xiàn)薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品，可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍 1nm 到mm 級。

       測量原理-光譜反射

       光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。 因為不涉及多種移動設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的首 選，而橢偏儀側(cè)重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術(shù)都可用。

    主要應用

    測量厚度、折射率、反射率和穿透率：

• 單層膜或多層膜疊加

• 單一膜層

• 液態(tài)膜或空氣層

    技術(shù)能力

    光譜波長范圍：190-1700 nm

    厚度測量范圍：1nm-250 μm

    測量n&k小厚度：50 nm

    準確度：取較大值，1nm 或 0.2%

    分辨率：0.02nm

    穩(wěn)定性：0.05nm

    光斑大小：1.5mm

    樣品尺寸：直徑從 1mm 到 300mm 或更大